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电子材料咨询机构TECHCET近期研报(以下简称研报)显示,随着高端芯片所需的先进制程工艺加速引入EUV,金属氧化物、干沉积、多触发等EUV光刻胶的市场规模将在2025年超过2亿美元。
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除了积极跟踪EUV光刻机的开发进程,芯片厂商也在寻找能够替代EUV光刻机的技术。被寄予厚望的不仅仅是电子束光刻技术。铠侠力推NIL压印工艺,声称有望在2025年实现5nm工艺;台积电采用DUV光刻技术同样实现了7nm工艺,并声称DUV光刻技术可以也可以实现5nm工艺。
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9月21日,美国原子级精密制造工具的纳米技术公司Zyvex Labs发布公告,已推出世界上最高分辨率的光刻系统“ZyvexLitho1“,其使用电子束光刻技术,实现了768皮米(即0.768纳米)的原子级精密图案和亚纳米级分辨率。Zyvex Labs已经开始接受ZvyvexLitho1系统的订单,交货期约为6个月。
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近日,ASML发布二季度财报,实现销售收入54.3亿欧元,同比增长35%,环比增长54%;其中设备收入41.4亿欧元,同比增长40%,环比增长80%。在中国大陆,第二季度ASML设备收入约4亿欧元,预计2022全年中国大陆同比增长10%左右。
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5月25日,美光总裁暨执行长Sanjay Mehrotra表示,公司位于中国台湾地区的新厂正式开启使用后,美光将引进最先进的1α纳米DRAM制程进行生产,同时还将配备最先进的极紫外光(EUV)设备。此前,三星与SK海力士均已宣布,在DRAM的部分工艺中将采用EUV光刻技术。这意味着,世界排名前三的DRAM供应商三星、SK海力士、美光都已在DRAM的制造过程中使用了EUV光刻技术。
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摘要:2021年,全球存储器市场先扬后抑,前三个季度内存价格一路攀升,第四季度却转为供过于求,价格开始下跌。2022年,随着三大原厂对EUV的应用将进一步增加,DRAM的成本构成逐步改变,NAND闪存也将进入172层时代,存储器的市场形态或将展现出一些新的特征。
装备制造
摘要:在《瓦森纳协定》限制下,我国已初步形成自主研发90nm光刻机产业链,虽与荷兰ASML的7nm全球高端产业链相差较远,但在局部领域已达到世界领先水平,并逐渐融入ASML高端产业链。本文主要从光刻机的产业链、市场格局等方面进行介绍。
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