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除了积极跟踪EUV光刻机的开发进程,芯片厂商也在寻找能够替代EUV光刻机的技术。被寄予厚望的不仅仅是电子束光刻技术。铠侠力推NIL压印工艺,声称有望在2025年实现5nm工艺;台积电采用DUV光刻技术同样实现了7nm工艺,并声称DUV光刻技术可以也可以实现5nm工艺。
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9月21日,美国原子级精密制造工具的纳米技术公司Zyvex Labs发布公告,已推出世界上最高分辨率的光刻系统“ZyvexLitho1“,其使用电子束光刻技术,实现了768皮米(即0.768纳米)的原子级精密图案和亚纳米级分辨率。Zyvex Labs已经开始接受ZvyvexLitho1系统的订单,交货期约为6个月。
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